Tension d'entrée

• 220 VCA 50/60 Hz
• Une alimentation de 110 V est disponible en utilisant un Transformateur 1000 W (fusible 15 A ). Le transformateur est vendu séparément

Puissance de sortie

• 1600 Vcc
• 250W
• 150 mA max.
• Protection intégrée contre les surintensités (>150 mA)

Tête de pulvérisation

• Une tête de pulvérisation magnétron flexible de 2 "avec une chemise de refroidissement à l'eau est incluse
• Un obturateur à commande manuelle pour la protection de la cible
• Le support de tête de pulvérisation est disponible pour maintenir la tête de pulvérisation en l'absence de fonctionnement
• La distance entre la tête de pulvérisation et la platine de l'échantillon est réglable de 60 à 100 mm
• Une Refroidisseur d'eau à recirculation d'eau froide débit de 16 L/min est inclus pour refroidir la tête de pulvérisation

Étape de vibration

• L'étage de vibration est intégré au fond de la chambre à vide
• La vitesse de vibration est réglable de 400 à 2000 tr/min (6 à 33 Hz)
• Un récipient de poudre de 2" est placé sur la scène de vibration. Il tournera pendant la vibration
• Quantité de poudre suggérée : < 500mg max.
• Taille de particule suggérée : 1 ~ 1000 microns

Chambre à vide

• Tube en verre de quartz, 165 mm de diamètre extérieur. X 150 mm DI x 250 mm Hauteur

Panneau de commande

• Panneau de commande à écran tactile couleur de 6" avec intégration PLC pour une utilisation facile
• Un panneau pour tous les paramètres de surveillance et de contrôle : vide, courant

Pression de vide ultime

• Orifice d'aspiration KF25 intégré
• Le système nécessite un réservoir de gaz Ar avec régulateur de pression (non inclus)
• < 1.0E-2 Torr par Pompe à vide à palettes (non incluse) pour cibles Au, Ag, Pt, Cu, Mo (non sensible à l'air)
• < 1.0E-5 Torr par Pompe turbomoléculaire (non incluse) pour cibles Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibles à l'air)
• Le vide le plus bas peut atteindre < 4.0E-6 Torr en pompant pendant la nuit et en cuisant

Atmosphère gazeuse

• Une vanne à pointeau installée pour permettre à l'entrée de gaz Ar d'obtenir un meilleur revêtement plasma
• Le système nécessite un réservoir de gaz Ar avec le régulateur de pression (non inclus)

Cible

• Une cible en cuivre de 5,1 cm est incluse pour les tests, taille de la cible : 5,1 cm de diamètre. x 2,5 mm
• Il peut également recouvrir Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , etc. presque tous les types de matériaux métalliques
• Avertissement: Aluminium, Chrome ou Nickel peut être enduit par cette machine, mais veuillez consulter la méthode de revêtement recommandée dans le lien cible ci-dessous
• Veuillez utiliser le revêtement de pulvérisation RF Plasma Magnetron pour le revêtement de matériaux non conducteurs et de carbone

Dimension globale

Poids net

• 20 kg

Poids d'expédition & Dimension

• 160 livres
• 45" x 45" x 40"

Conformité

• Homologation CE
• La certification NRTL (UL 6100) est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires, veuillez contacter notre représentant commercial pour un devis

garantie

• Un an limité avec support à vie

Notes d'application

• Avertissement : la tête de pulvérisation se connecte à la haute tension. L'opérateur doit porter des gants pendant le fonctionnement
• Assurez-vous que la cible, la tête de pulvérisation, le substrat et l'étape de chauffage sont propres avant le revêtement, vous devez utiliser le papier de verre et l'alcool pour nettoyer et rafraîchir la cible Al ou Nickel à chaque utilisation.
• Remarque : la poudre doit sécher et bien se disperser avant le revêtement
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