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Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI
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VTC-5RFPort d’expédition:
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Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DCProchaine:
Machine de revêtement PVD en poudre de laboratoire avec étape de pulvérisation et de vibration magnétron CC
Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI
VTC-5RF est un système de pulvérisation magnétron plasma RF à 5 canons conçu pour la recherche sur les couches minces de l'initiative du génome matériel (MGI) à haut débit, permettant l'exploration de nouvelles générations de matériaux via la pulvérisation combinatoire pour les matériaux métalliques et non métalliques. Le système est capable d'un revêtement combinatoire à cinq éléments de jusqu'à 16 échantillons avec des compositions variables, ce qui le rend particulièrement adapté à la recherche de matériaux électrolytiques à l'état solide hautes performances, d'alliages magnétiques et de matériaux multiferroïques.
CARACTÉRISTIQUES
Fonctionnalités |
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La puissance d'entrée |
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Source d'énergie |
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Optionnel |
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Tête de pulvérisation magnétron |
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Chambre à vide |
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Porte-échantillon |
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Pompe à vide |
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Optionnel |
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Poids net |
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Conformité |
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garantie |
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Notes d'application |
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