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produits
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coucheuse verticale à contrôle programmable
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Transfert automatique de bobine à bobine Film Machine d’enduit avec étuve pour électrodes de batteries
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Laboratoire Film automatique grand Coater avec vide Chuck et réglable de racle
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Machine à enduire de matrice de fente de table de laboratoire pour le revêtement de couche mince de haute précision
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Machine de revêtement intermittente d'électrode de batterie pour la ligne de production
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Machine de revêtement par immersion à cuve unique de bureau de laboratoire
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Cible Si monocristallin, dopé P (100) 3" x 4,0 mm, non poli-TG-SiPa76D40CN
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Cible en monocristal de Si, type N, non dopé, (100) ori., 3'' dia x 6,0 mm, meulé fin, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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Cible ZnS, 99,99 %, 4 po de diamètre x 1/8 po avec plaque de support en cuivre
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Cible monocristalline Si, type N, non dopée 4 "x0,25", non polie R: 1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
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Cible PbS avec support en cuivre et plaque de revêtement, pureté : 99,99 %
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Monocristal de MgO pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Monocristal de MgF2 pour évaporation, unité 2,8-6 mm : gramme
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Cible LiNiCoMnO2 pour cathode de batterie à couche mince
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Cible LiMn2O4 pour cathode de batterie à couche mince
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Cible LiFePO4 pour cathode de batterie à couche mince
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GaAs monocristal pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Monocristal de CdWO4 pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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CaF2 monocristal pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Cible GaN, 99.99% 15mmx3.0mm，TG-GaN15D30CN
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Cible en céramique conductrice (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
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Cible BiFeO3, 3 "de diamètre x 0,125" d'épaisseur, liaison à la plaque de support en cuivre (Cu) (0,111 "d'épaisseur)
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Monocristal Al2O3 pour évaporation, pureté 99,99%, 5x5x5 mm tel que coupé
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Cible Al2O3, pureté : 99,99 %, 6,9"x8,9"x0,25" d'épaisseur, Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Cible Ba0.5Sr0.5TiO3, 99.99%
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Cible Zr, 99,99 %, 8,9" x6,9" x0,25", TG-Zr-222-172-0635CN
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Cible Cu(1%Ga), pureté : 99,99 % 4" dia. x0,25"
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Cible Cd, pureté : 99,999 % 5,1 cm de diamètre x 1/8" avec plaque de support en cuivre.
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Cible en acier inoxydable de haute pureté, 2" dia.x 0,3 mm
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Cible Cu(9)In(11), pureté : 99,99 %, 4" dia.x 0,125"
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Machine de revêtement d'évaporation thermique sous vide à température contrôlée de précision de laboratoire
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Réchauffeur de machine de revêtement de pulvérisation de plasma à 3 cibles rotatives (500C) comprenant 3 cibles
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coucheuse compacte avec coulée sous vide (8 "lx 14" l), applicateur de film et couvercle de séchoir 100ºc en option
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enduiseur par immersion programmable de gamme micron (1-500 um / sec) avec four de séchage jusqu'à 100 ° c
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Vernisseuse programmable à 5 positions avec vitesse 1-200 mm / min et chambre de chauffe 100 ° c max.
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coucheuse par immersion (1-200 mm / min) avec chambre de température de 124 l et contrôleur à écran tactile pour grand substrat jusqu'à 16 "x 9"
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centrifugeuse à mandrin sous vide programmable (500-6000 tr / min, plaquette 8 "max) avec couvercle chauffant en option
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centrifugeuse compacte (max. 8000 tr / min, plaquette de 4 "max.) avec 3 jeux de mandrins à vide et accessoires complets
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centrifugeuse économique de bureau (max. 8000 tr / min) avec accessoires complets
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Applicateur de film humide réglable avec micromètre à affichage numérique
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enduiseur plongeant multi-navires de bureau
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système de revêtement par transfert rouleau à rouleau (largeur max. 300 mm) avec four de séchage pour électrodes
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