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produits
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Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de C.C de laboratoire avec la cible pour le revêtement en métal noble
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Réchauffeur de machine de revêtement de pulvérisation de plasma à 3 cibles rotatives (500C) comprenant 3 cibles
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2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine pour couches minces non conductrices
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Applicateur de film humide réglable avec micromètre à affichage numérique
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Applicateur de Film micromètre avec largeur réglable 0 - 150 mm
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Cible Si monocristallin, dopé P (100) 3" x 4,0 mm, non poli-TG-SiPa76D40CN
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Cible en monocristal de Si, type N, non dopé, (100) ori., 3'' dia x 6,0 mm, meulé fin, R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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Cible ZnS, 99,99 %, 4 po de diamètre x 1/8 po avec plaque de support en cuivre
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Cible PbS avec support en cuivre et plaque de revêtement, pureté : 99,99 %
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Monocristal de MgO pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Monocristal de MgF2 pour évaporation, unité 2,8-6 mm : gramme
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Cible LiNiCoMnO2 pour cathode de batterie à couche mince
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Cible LiMn2O4 pour cathode de batterie à couche mince
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Cible LiFePO4 pour cathode de batterie à couche mince
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GaAs monocristal pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Monocristal de CdWO4 pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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CaF2 monocristal pour évaporation, 5x5x5 mm tel que coupé
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Cible GaN, 99.99% 15mmx3.0mm，TG-GaN15D30CN
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Cible en céramique conductrice (1" Dx 0,3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
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Cible BiFeO3, 3 "de diamètre x 0,125" d'épaisseur, liaison à la plaque de support en cuivre (Cu) (0,111 "d'épaisseur)
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Monocristal Al2O3 pour évaporation, pureté 99,99%, 5x5x5 mm tel que coupé
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Cible Al2O3, pureté : 99,99 %, 6,9"x8,9"x0,25" d'épaisseur, Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Cible Ba0.5Sr0.5TiO3, 99.99%
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Cible Zr, 99,99 %, 8,9" x6,9" x0,25", TG-Zr-222-172-0635CN
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Cible Cu(1%Ga), pureté : 99,99 % 4" dia. x0,25"
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Cible Cd, pureté : 99,999 % 5,1 cm de diamètre x 1/8" avec plaque de support en cuivre.
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Cible en acier inoxydable de haute pureté, 2" dia.x 0,3 mm
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Laboratoire Film automatique grand Coater avec vide Chuck et réglable de racle
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine
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Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DC
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Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI
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Lab 3 têtes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine avec DC Magnetron Sputtering
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Applicateur de film à largeur réglable avec micromètre réglable
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enduiseur à immersion programmable de grande taille à 5 positions avec four sec de 225 l
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coucheuse par immersion contrôlée par plc (1-200 mm / min) pour les grands substrats jusqu'à 10 "x12"
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Petite machine de revêtement thermofusible de laboratoire
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Machine d'enduction de colle thermofusible personnalisable
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Machine faite sur commande de revêtement de cire d'abeilles de laboratoire pour le papier d'emballage d'enveloppe d'abeille
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Machine de revêtement de lame de docteur compacte de laboratoire personnalisée
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Machine de système d'évaporation thermique à 4 sources avec contrôleur de température de précision
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