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Four CSS à deux zones avec support de plaquette rotatif jusqu'à 5x5" à Max.800°C
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OTF-1200X-RTP-II-5-RPort d’expédition:
XiamenMOQ:
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Four CSS à deux zones avec porte-plaquettes rotatif jusqu'à 5x5" à max.800°C - OTF-1200X-RTP-II-5-R
OTF-1200X-RTP-II-5-R est un four de traitement thermique rapide avancé avec une chambre en quartz de 11" de diamètre intérieur et un porte-échantillon rotatif de 5"x5". Il est conçu pour le revêtement de film CSS jusqu'à 5" d'échantillons de plaquettes circulaires ou carrées à une température de travail de 800°C max. Le four est chauffé séparément par deux groupes de radiateurs halogènes (haut et bas) avec max. dix º C/s taux de chauffage. Le porte-échantillon supérieur est rotatif pour obtenir un revêtement de haute uniformité. C'est un excellent outil pour rechercher des couches minces de nouvelle génération pour les cellules solaires, telles que CdTe, sulfure et P cellule solaire erovskite.
CARACTÉRISTIQUES: