La puissance d'entrée

• 220 VCA, 50/60 Hz, monophasé
• 800 W (y compris la pompe)
• Si la tension est de 110 VAC, un transformateur de 1000 W est requis, veuillez cliquer sur l'image de gauche pour commander

Alimentation d'origine

• Une Générateur RF 13,5 MHz, 300 W avec adaptation automatique La fonction est intégrée dans l'armoire et connectée à une tête de pulvérisation de 2 ".
• Facultatif : une source d'alimentation de pulvérisation c.c. est disponible pour le revêtement de matériaux métalliques

Tête de pulvérisation magnétron

• Une tête de pulvérisation magnétron de 2 "avec des chemises de refroidissement à l'eau est incluse et insérée dans la chambre de quartz via une pince rapide
• Un obturateur est construit sur la bride (actionné manuellement)
• Un refroidisseur d'eau de recirculation à commande numérique de 16 L/min est nécessaire pour refroidir les têtes de pulvérisation magnétron
• La tête de pulvérisation de 1 "est remplaçable et facultative moyennant des frais supplémentaires
• Le câble RF de 148 cm est remplaçable avec un coût supplémentaire
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Cible de pulvérisation

• Exigence de taille cible : 2" de diamètre x 1/4" d'épaisseur Max
• Une cible SiO2 est incluse pour le test de démonstration.
• Cible en céramique Al2O3 Recommander la méthode de revêtement
• Des cibles de pulvérisation de 2 "en option (avec plaque de support) sont disponibles sur demande moyennant des frais supplémentaires.

Chambre à vide

• Chambre à vide : 160 mm OD x 150 mm ID x 250 mm Hauteur. en quartz de haute pureté
• Bride d'étanchéité : 165 mm de diamètre. en aluminium avec joint torique en silicone haute température
• Un couvercle en maille d'acier inoxydable est inclus pour protéger à 100 % le rayonnement RF de la chambre
• Niveau de vide : 1,0E-2 Torr avec pompe mécanique à deux étages incluse et 1,0E-5 Torr avec turbopompe en option

Porte-échantillon

• Le porte-échantillon est rotatif et peut être chauffé, composé d'un élément chauffant en céramique avec couvercle en acier inoxydable
• La taille du porte-échantillon : 50 mm de diamètre. pour plaquette 2" max
• La vitesse de rotation est réglable : 1 à 10 tr/min pour un revêtement uniforme
• La température du support est réglable de RT à 500°C Max avec une précision de +/- 1,0°C via un régulateur de température numérique.
• Un porte-échantillon chauffant de 800 à 1 000 ºC est disponible sur demande sur demande.
• Un support d'échantillon de vibration en option est disponible pour le revêtement PVD de puissance. (Photo 3 ci-dessous)
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Station de pompage à vide

• Le port de vide KF25 est intégré pour le raccordement à une pompe à vide.
• Une pompe à vide avec adaptateur KF25 est nécessaire, mais non incluse. Veuillez cliquer sur l'image pour commander séparément.
• Niveau de vide : 1.0E-2 Torr avec pompe mécanique à deux étages et 1.0E-5 Torr avec la turbopompe

Optionnel

• Le capteur d'épaisseur de quartz de précision est facultatif et peut être intégré dans la chambre pour surveiller l'épaisseur du revêtement avec une précision de 0,10 Å. L'ordinateur portable est requis pour la corve d'épaisseur d'affichage
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Dimensions hors tout

Poids net

• 70 kg

Garantie & Conformité

• Garantie limitée d'un an avec assistance à vie
• Certifié CE
• La certification NRTL ou CSA est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires

Notes d'application

• Cette coucheuse de pulvérisation magnétron RF compacte de 2 "est conçue pour revêtir des couches minces d'oxyde sur des substrats monocristallins d'oxyde, qui ne nécessitent généralement pas d'installation sous vide poussé
• Veuillez utiliser > Gaz Ar de pureté 5N pour la pulvérisation plasma
• Pour la meilleure force d'adhérence film-substrat, veuillez nettoyer la surface du substrat avant de recouvrir :
• Nettoyage par ultrasons avec les bains séquentiels suivants - (1) acétone, (2) alcool isopropylique - pour éliminer l'huile et la graisse. Séchez le substrat avec du N2, puis faites cuire à chaud sous vide pour éliminer l'humidité absorbée
• Un nettoyage au plasma peut être nécessaire pour la rugosité de la surface, l'activation des liaisons chimiques de surface ou l'élimination supplémentaire de la contamination
• Une fine couche tampon (~ 5 nm), telle que Cr, Ti, Mo, Ta, pourrait être appliquée pour améliorer l'adhérence des métaux et des alliages
• Pour des performances optimales, les cibles non conductrices doivent être installées avec une plaque de support en cuivre. Veuillez vous référer à la vidéo d'instructions ci-dessous (#3) pour la liaison cible
• TMAX utilise les Coaters qui ont revêtu avec succès ZnO sur Al 2 O 3 substrat à 500 °C (profil XRD sur la photo 5)
• NE PAS utiliser l'eau du robinet dans le refroidisseur d'eau. Utilisez de l'eau DI, de l'eau distillée ou des additifs anti-corrosifs comme colant.
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