Introduction

Haute Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron sous vide est idéal et conçu pour la science des matériaux et la préparation d'échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour revêtir, pour les métaux, les céramiques, les semi-conducteurs, les isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires.

La coucheuse de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron en très peu de temps. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation CC / RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est également facile à utiliser et convivial.

La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus.

Paramètre