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  • Coucheuse par pulvérisation magnétron DC ou RF Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF

    Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF Introduction Haute Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron sous vide est idéal et conçu pour la science des matériaux et la préparation d'échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour revêtir, pour les métaux, les céramiques, les semi-conducteurs, les isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires. La coucheuse de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron en très peu de temps. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation CC / RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est également facile à utiliser et convivial. La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump+( o c'est gratuit) t urbain m oléculan p ump ensemble Rotatif p umping s pissé 50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /h (5,2 L/s) Moléculaire p umping s pissé 300 L/ s Vide je imiter 5*10 -5 Pennsylvanie Travail p pression 0,5-5 Pa Passe l'aspirateur t je moi > 10 minutes (10 -3 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 1*10 -6 Pennsylvanie Gaz c contrôle Gaz F bas c contrôleur Chambre s ize φ260*200mm (hauteur) m etal Magnétron t argent s source Taille cible φ 50*3mm(Cu)/ t source cible : w eak m magnétique s substance / m matériaux Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 100 kg/610 mm de longueur x 420 mm de largeur x 490 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation <3000W Refroidissement m méthode Air c bouillir ( p ump)+ w après c bouillir ( s putter t arget) garantie Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie

  • Science des matériaux Magnétron Ion Coating Coater Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide pour la science des matériaux

    Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide pour la science des matériaux Introduction La science des matériaux Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron (Modèle SD900M) est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Il est largement utilisé pour revêtir des échantillons SEM non conducteurs ou sensibles à la chaleur avec Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface et évite d'endommager l'échantillon de substrat. Exemple d'image de résultat de revêtement sous SEM (par modèle SD-900M) EPTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylene étendu) Faible vide, peut être atteint rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée dans les 5 minutes. Il génère beaucoup moins de chaleur et évite que le plasma n'endommage l'échantillon de substrat. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Le refroidisseur est facultatif. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant de pulvérisation maximum 100mA Travail p pression 20 Pa - 8 Pennsylvanie Passe l'aspirateur t je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Cible Taille φ50*0.1mm(Au) / t source cible : Au,Ag,Pt Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 45 kg/ 36 0mm longueur x 30 0 mm de large X 38 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 15 00W Méthode de refroidissement Refroidissement par eau (facultatif) garantie Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie

  • Sputter Coater pour la préparation d'échantillons SEM Revêtement de pulvérisation de carbone par évaporation thermique d'ions magnétron pour la préparation d'échantillons SEM

    Revêtement de pulvérisation de carbone par évaporation thermique d'ions magnétron pour la préparation d'échantillons SEM Introduction Unité de pulvérisation ionique magnétron &amp; Thermique Carbone d'évaporation Coucheuse est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Le modèle SD900C (unité de pulvérisation ionique magnétron) est largement utilisé pour revêtir des échantillons SEM non conducteurs ou sensibles à la chaleur avec Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface et évite d'endommager l'échantillon de substrat. Le revêtement de carbone modèle SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) applique un mince film de carbone conducteur sur une surface d'échantillon. L'application de ce revêtement à un échantillon non conducteur est une technique de préparation efficace pour diminuer les artefacts d'électrons de charge pour l'analyse dans un SEM. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée en 5 minutes. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Le refroidisseur est facultatif. (pour l'unité de pulvérisation ionique magnétron) Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant de pulvérisation maximum 100mA Évaporation maximale courant 100A Travail p pression 20 Pa - 8 Pennsylvanie Passe l'aspirateur je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Gaz c contrôle Gaz F bas c contrôleur Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Taille cible φ 50* 0,1 mm( UN tu)/ t source cible : Au,Ag,Pt Évaporation t argent s source Matériau cible : corde en carbone/source cible : corde en carbone Opération m méthode Manuel d'instructions je (2 unités) Masse/ s ize 55 kg/ 36 0mm longueur x 30 0 mm de large X 38 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 20 00W Refroidissement m méthode Air c bouillir (Évaporation) + refroidissement par eau (pulvérisation) garantie Garantie limitée d'un an avec produit à vie soutien t

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