Coucheuse de revêtement de carbone à évaporation thermique sous vide pour la science des matériaux

Coucheuse de revêtement de carbone à évaporation thermique sous vide pour la science des matériaux Introduction Revêtement de carbone par évaporation thermique (Modèle SD800C) est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Le revêtement de carbone modèle SD800C applique un mince film de carbone conducteur sur une surface d'échantillon. L'application de ce revêtement à un échantillon non conducteur est une technique de préparation efficace pour diminuer les artefacts d'électrons de charge pour l'analyse dans un SEM. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée en 5 minutes. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Évaporation maximale courant 100A Travail p pression 6 Pa - 4 Pennsylvanie Passe l'aspirateur t moi < 5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Évaporation t argent s source Cible matériau : corde de carbone/source cible : corde de carbone Opération m méthode Manuel d'instructions Masse/ s ize 45 kg/ 34 0mm longueur x 39 0 mm de large X 30 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation < 2 000W garantie Garantie limitée d'un an avec produit à vie Support

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide pour la science des matériaux

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide pour la science des matériaux Introduction La science des matériaux Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron (Modèle SD900M) est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Il est largement utilisé pour revêtir des échantillons SEM non conducteurs ou sensibles à la chaleur avec Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface et évite d'endommager l'échantillon de substrat. Exemple d'image de résultat de revêtement sous SEM (par modèle SD-900M) EPTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylene étendu) Faible vide, peut être atteint rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée dans les 5 minutes. Il génère beaucoup moins de chaleur et évite que le plasma n'endommage l'échantillon de substrat. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Le refroidisseur est facultatif. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant de pulvérisation maximum 100mA Travail p pression 20 Pa - 8 Pennsylvanie Passe l'aspirateur t je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Cible Taille φ50*0.1mm(Au) / t source cible : Au,Ag,Pt Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 45 kg/ 36 0mm longueur x 30 0 mm de large X 38 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 15 00W Méthode de refroidissement Refroidissement par eau (facultatif) garantie Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie