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Machine de revêtement de film deux en un : pulvérisation de plasma et machine de revêtement par évaporation de carbone
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Machine de revêtement par évaporation thermique sous vide poussé ultrasonique avec quatre sources de chauffage (10-6 torr)
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Four CSS de laboratoire à deux zones pour un traitement thermique rapide jusqu'à 5" Dia Wafer à Max.800°C
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Revêtement de pulvérisation de carbone par évaporation thermique d'ions magnétron pour la préparation d'échantillons SEM
Revêtement de pulvérisation de carbone par évaporation thermique d'ions magnétron pour la préparation d'échantillons SEM Introduction Unité de pulvérisation ionique magnétron & Thermique Carbone d'évaporation Coucheuse est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Le modèle SD900C (unité de pulvérisation ionique magnétron) est largement utilisé pour revêtir des échantillons SEM non conducteurs ou sensibles à la chaleur avec Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface et évite d'endommager l'échantillon de substrat. Le revêtement de carbone modèle SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) applique un mince film de carbone conducteur sur une surface d'échantillon. L'application de ce revêtement à un échantillon non conducteur est une technique de préparation efficace pour diminuer les artefacts d'électrons de charge pour l'analyse dans un SEM. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée en 5 minutes. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Le refroidisseur est facultatif. (pour l'unité de pulvérisation ionique magnétron) Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant de pulvérisation maximum 100mA Évaporation maximale courant 100A Travail p pression 20 Pa - 8 Pennsylvanie Passe l'aspirateur je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Gaz c contrôle Gaz F bas c contrôleur Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Taille cible φ 50* 0,1 mm( UN tu)/ t source cible : Au,Ag,Pt Évaporation t argent s source Matériau cible : corde en carbone/source cible : corde en carbone Opération m méthode Manuel d'instructions je (2 unités) Masse/ s ize 55 kg/ 36 0mm longueur x 30 0 mm de large X 38 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation < 20 00W Refroidissement m méthode Air c bouillir (Évaporation) + refroidissement par eau (pulvérisation) garantie Garantie limitée d'un an avec produit à vie soutien t