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Four CSS de laboratoire à deux zones pour un traitement thermique rapide jusqu'à 5" Dia Wafer à Max.800°C
Model Number:
OTF-1200X-RTP-II-5Port d’expédition:
XiamenMOQ:
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Four CSS à deux zones de laboratoire pour un traitement thermique rapide jusqu'à 3" de diamètre et 650 °C.Prochaine:
Machine de revêtement par évaporation thermique sous vide poussé ultrasonique avec quatre sources de chauffage (10-6 torr)
Four CSS de laboratoire à deux zones pour le traitement thermique rapide jusqu'à 5" Dia Wafer à Max.800°C - OTF-1200X-RTP-II-5
OTF-1200X-RTP-II-5 est un four de traitement thermique rapide avec une chambre à quartz de 11" I.D. Il est conçu pour l'évaporation thermique ou CSS ( Sublimation rapprochée ) revêtement de film jusqu'à 5" Dia. Échantillons circulaires et 800°C Max. Le four est chauffé par deux groupes de radiateurs halogènes (Haut et Bas) séparément avec max. 10ºC/s taux de chauffage. Deux contrôleurs de température de précision à 30 segments sont intégrés avec une précision de +/- 1 ºC. Le port RS485 et le logiciel de contrôle sont inclus pour permettre le fonctionnement du four et l'enregistrement du profil de température via un PC. C'est un excellent outil pour rechercher des couches minces de nouvelle génération pour les cellules solaires, telles que les cellules solaires CdTe, sulfure et pérovskite.
CARACTÉRISTIQUES: