Caractéristique

• Spécialement conçu pour le revêtement d'un film d'or conducteur pour un échantillon SEM
• Machine de revêtement par pulvérisation plasma compacte conçue pour les revêtements métalliques, tels que l'or, le platine et l'argent
• Une Cible 2" or (4N) est inclus

Tension d'entrée

• 220 VCA 50/60 Hz, 200 W
• < 1000 W (y compris la puissance de la pompe à vide)
• Une alimentation de 110 VAC est disponible en utilisant un Transformateur 1000 W (fusible 15 A) . Le transformateur est vendu séparément

Tension de sortie

• 500 Vcc

Courant de pulvérisation

• 0 - 50 mA (max.) courant de pulvérisation réglable
• Compteur de courant numérique (mA)
• Protection contre les surintensités

Temps de pulvérisation

• 1 -120 secondes réglable

Chambre d'échantillon

• Tube en verre de quartz, 165 mm de diamètre extérieur. x 150 mm DI x 150 mm Hauteur

Stade de l'échantillon

• 2" de diamètre
• réglable en hauteur, 30 - 80 mm de l'échantillon à la cible

Tête de pulvérisation

• Tête de pulvérisation magnétron 2"
• Un obturateur à commande manuelle pour la protection de la cible

Pression de vide

• Vacuomètre numérique (Pa)
• Connecteur de pompe à vide KF25
• Pression de vide ultime 1 Pa par la pompe mécanique. La pompe n'est pas incluse

Pompe à vide (facultatif)

• La pompe à palettes à double étage EQ-FYP est recommandée.
• Facultatif : vous pouvez utiliser un pompe turbo pour obtenir un vide de 1.0E-5 Torr par une pompe turbo (Cliquez sur l'image en bas à droite)

Gaz d'entrée

• Un raccord de tube de type Swagelok 1/4 est installé pour connecter la bouteille de gaz inerte
• Une vanne de dosage se trouve sur le panneau avant pour régler le gaz d'entrée

Cible

• Un diamètre de 50 mm. Une cible dorée de 0,12 mm est incluse
  
  
• Feuille d'or de pureté 4N : 50 mm (2 pouces) de diamètre. x 0,12 mm (Inclus et pré-installé sur la coucheuse)
  
• Des cibles facultatives sont disponibles (Cliquez ci-dessous pour commander)
  • Au cible (diamètre 50 mm x 0,12 mm, pureté 4N)
  • Cible de points (diamètre 50 mm x 0,12 mm, pureté 4N)
  • Ag cible (diamètre 50 mm x 0,5 mm, pureté 4N)

Ce modèle convient au revêtement d'or, d'argent et de platine. Il ne convient pas au revêtement de matériaux métalliques légers tels que Al, Mg, Zn ou une cible de carbone en raison de sa faible énergie. Veuillez considérer notre coucheuse par pulvérisation magnétron DC/RF haute puissance ou notre coucheuse par évaporation thermique.

Dimensions et poids du produit

• 460 mm (L) × 330 mm (L) × 520 mm (H)
• 20 kg

Poids d'expédition & Dimension

• 80 livres
• 45" x 45" x 40"

Conformité

• Certifié CE
• Prêt à passer la certification UL/CSA moyennant des frais supplémentaires.

garantie

• Un an limité avec support à vie

Notes d'application

• Pour la meilleure force d'adhérence film-substrat, veuillez nettoyer la surface du substrat avant de recouvrir :
• Nettoyage par ultrasons (Cliquez sur l'image ci-dessous pour commander) avec les bains séquentiels suivants - (1) acétone, (2) alcool isopropylique - pour éliminer l'huile et la graisse. Séchez le substrat avec du N2, puis faites cuire à chaud sous vide pour éliminer l'humidité absorbée
• Un nettoyage au plasma (Cliquez sur l'image ci-dessous pour commander) peut être nécessaire pour la rugosité de la surface, l'activation des liaisons chimiques de surface ou l'élimination supplémentaire de la contamination
• Une fine couche tampon (~ 5 nm), telle que Cr, Ti, Mo, Ta, pourrait être appliquée pour améliorer l'adhérence des métaux et des alliages

• Un régulateur de pression à deux étages (non inclus) doit être installé sur la bouteille de gaz pour limiter la pression de sortie du gaz à moins de 0,02 MPa pour une utilisation en toute sécurité. Veuillez utiliser > Gaz Ar de pureté 5N pour la pulvérisation plasma
• La coucheuse par pulvérisation peut être placée dans une boîte à gants à gaz Ar et N2 pour le revêtement
• Veuillez enduire plusieurs couches pour augmenter l'épaisseur du revêtement, veuillez laisser la machine refroidir pendant quelques minutes entre chaque utilisation car elle n'a pas de refroidissement par eau.
• HAUTE TENSION! Les têtes de pulvérisation se connectent à haute tension. Pour des raisons de sécurité, l'opérateur doit arrêter l'équipement avant le chargement de l'échantillon et les opérations de changement de cible
• Ce modèle ne convient pas au revêtement de matériaux métalliques légers tels que Al, Mg, Zn ou une cible de carbone en raison de sa faible énergie. Veuillez considérer notre coucheuse par pulvérisation magnétron ou notre coucheuse par évaporation thermique. (Cliquez sur les images ci-dessous pour plus de détails)