Tension d'entrée

• 220 VCA 50/60 Hz
• Une alimentation de 110 V est disponible en utilisant un Transformateur 1000 W (fusible 15 A ). Le transformateur est vendu séparément.

Puissance de sortie

• 1600 Vcc
• 250W
• 150 mA max.
• Protection intégrée contre les surintensités (>150 mA)

Chambre d'échantillon

• Tube en verre de quartz, 165 mm de diamètre extérieur. X 150 mm DI x 250 mm Hauteur

Tête de pulvérisation &
Stade de l'échantillon

• Une tête de pulvérisation magnétron flexible de 2" avec chemise de refroidissement par eau est incluse (Fig.1)
• Une platine d'échantillonnage en acier inoxydable de 50 mm de diamètre est rotative de 0 à 5 tr/min
• Un obturateur à commande manuelle pour la protection de la cible. (Fig.2)
• Le support de tête de pulvérisation est disponible pour maintenir la tête de pulvérisation en l'absence de fonctionnement.
• La distance entre la tête de pulvérisation et la platine d'échantillonnage est réglable de 60 à 100 mm.
• Zone de revêtement maximale : 4" de diamètre max.
• Une Refroidisseur d'eau à recirculation d'air froid débit de 10 L/min est inclus pour refroidir la tête de pulvérisation. (Fig.6)
• 

Panneau de commande

• Panneau de commande à écran tactile couleur de 6" avec intégration PLC pour une utilisation facile
• Un panneau pour tous les paramètres de surveillance et de contrôle : vide, courant.

Pression de vide ultime

• Orifice d'aspiration KF25 intégré
• Le système nécessite un réservoir de gaz Ar avec régulateur de pression. (non inclus)
• < 1.0E-2 Torr par Pompe à vide à palettes (non incluse) pour cibles Au, Ag, Pt, Cu, Mo (non sensible à l'air)
• < 1.0E-5 Torr par Pompe turbomoléculaire (non incluse) pour cibles Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensibles à l'air)
• Le vide le plus bas peut atteindre < 4.0E-6 Torr en pompant pendant la nuit et en cuisant

Atmosphère gazeuse

• Une vanne à pointeau installée pour permettre à l'entrée de gaz Ar d'obtenir un meilleur revêtement plasma
• Le système nécessite un réservoir de gaz Ar avec le régulateur de pression (non inclus)

Cible

· Une cible en cuivre de 5,1 cm est incluse pour les tests, taille de la cible : 5,1 cm de diamètre x 2,5 mm.

• Il peut également recouvrir Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , etc. presque tous les types de matériaux métalliques.
• Avertissement : Cible en aluminium, chrome ou nickel peut être revêtu par cette machine, mais veuillez consulter la méthode de revêtement recommandée avant de l'utiliser.
• Veuillez utiliser RF Plasma Magnetron Sputtering pour le revêtement d'alumine

Moniteur d'épaisseur de film en option

• Le moniteur d'épaisseur de film est facultatif moyennant des frais supplémentaires
• Une platine d'échantillon chauffante jusqu'à 500°C est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires
• Un débitmètre pour une entrée de gaz de contrôle précise est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires.

Dimension globale

• L 440 mm × L 330 mm × H 290 mm

Poids net

• 20 kg

Poids d'expédition & Dimension

• 160 livres
• 45" x 45" x 40"

Conformité

• Homologation CE
• La certification NRTL est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires, veuillez contacter notre représentant commercial pour un devis.

garantie

• Un an limité avec support à vie

Notes d'application

• Avertissement : la tête de pulvérisation se connecte à la haute tension. L'opérateur doit porter des gants pendant le fonctionnement
• Assurez-vous que la cible, la tête de pulvérisation, le substrat et l'étape de chauffage sont propres avant le revêtement, vous devez utiliser le papier de verre et l'alcool pour nettoyer et rafraîchir la cible Al ou Nickel à chaque utilisation.