alimentation rf

le système pecvd est composé d'un four tubulaire, d'une chambre à vide en quartz, d'un système de vide, d'une alimentation en gaz système et système d'alimentation rf. principalement utilisé dans: film métallique, film céramique, film composite, graphène et autre croissance.il est facile d'augmenter la fonction de gravure de nettoyage au plasma et de gravure.Le système pecvd présente des avantages de haute taux de dépôt, bonne uniformité, consistance et stabilité.

plage de puissance de sortie	0-500w
puissance réfléchie maximale	200 w
fréquence de travail	rf ： 13,56 mhz ± 0,005%
stabilité PW	+/- 0,1%
composante harmonique	≤ -50dbc
largeur rf	0-600mm réglable
mode de correspondance	auto
mode de refroidissement	air froid
bruit	& lt; 50db
interface rf	50 Ω type n
la puissance d'entrée	208-240v 50 / 60hz

1. nous fournissons des machines avec prise en charge de la technologie de la batterie.

2. nous fournissons ensemble complet de équipement de batterie au lithium pour la recherche en laboratoire, la recherche à l'échelle pilote et la ligne de production e.

1 emballage standard exporté: protection anti-collision interne, emballage en bois pour exportation externe.

2 expédition par exprès, par air, par mer selon les exigences des clients pour trouver le moyen le plus approprié.

3 responsable des dommages pendant le processus d'expédition, changera la partie des dommages pour vous gratuitement.