Laboratoire haute température PECVD rotatif Tube four (60 mm OD) avec Zone de chauffe unique à 1200C Max.

PECVD rotatif Tube four (60 mm OD) avec chauffage seul la Zone à 1200 ° C Max. TMAX-DSP-1200PECVD-XZ s est trois zone 1200ºC PE-CVD tube four système se compose de 500W source de plasma RF, fourneau de tube avec un chaîne intégrée précision débitmètre massique avec réservoir de mélange de gaz et un four de grande qualité sans huile pompe à vide. telle une PE-CVD est un nouvel outil pour se développer les nanofils ou graphène ou SiC revêtement.

Laboratoire C 1200 Max. Deux Zone haute température PECVD Tube four (diamètre de Tube en option) avec Auto - coulissant

1200ºC Max. Deux four PECVD Tube à Zone (facultatif Tube Dia) avec Auto-coulissantes TMAX-DSP-1200PECVD est qu'un bi-zone coulissant PE-CVD tube four système se compose de la source de plasma RF, avec la taille du tube et un rail coulissant intégré, le débitmètre massique de précision avec réservoir et une pompe à vide sans huile qualité de mélange de gaz. telle une fournaise de PE-CVD est un nouvel outil pour cultiver des nanofils ou graphène avec les avantages suivants : 1. traitement de température inférieure par rapport aux maladies cardiovasculaires classiques. 2. élevée de chauffage et de refroidissement taux moyen four coulissant. 3. 1200ºC Max. température de fonctionnement. 4. propose une large gamme de dépôts de matière, comme carbone & ZnO nanofils (ou tube) et graphème simple couche.

four tubulaire monofonction 1200 ° c split

four tubulaire monofonction 1200 ° c split