coucheuse par immersion programmable avec une étuve de séchage (1-500 nm / sec, 100 ° c max.)

coucheuse par immersion programmable avec une étuve de séchage (1-500 nm / sec, 100 ° c max.)

coucheuse compacte avec coulée sous vide (8 "lx 14" l), applicateur de film et couvercle de séchoir 100ºc en option

coucheuse compacte avec coulée sous vide (8 "lx 14" l), applicateur de film et amp; housse de sécheuse 100ºc en option tmax-tmh250 est une coucheuse de coulée de bande compacte certifiée CE avec un couvercle chauffant conçu pour produire des films d'épaisseur constante. il dispose d'un système d'entraînement unique pour produire un revêtement lisse sur tous types de matériaux. le mandrin à vide plat est intégré pour maintenir la feuille de substrat en place, ce qui est particulièrement utile lors de la réalisation de revêtements minces. un applicateur micrométrique réglable de 100 mm de largeur (racle). Le couvercle chauffant avec régulateur de température numérique peut sécher les films après revêtement jusqu'à 100 ° C avec une précision de température de +/- 1 ° C. cet équipement peut être utilisé pour les chercheurs sur les moulages de ruban en céramique et le revêtement d'électrode de batterie li-ion.

Lab 3 têtes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine avec DC Magnetron Sputtering

3 têtes compactes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater, avec option de pulvérisation DC Magnetron

2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine pour couches minces non conductrices

2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater pour couches minces non conductrices

Machine de revêtement de pulvérisation magnétron DC Lab avec étage rotatif et refroidisseur d'eau

Coucheuse de pulvérisation magnétron CC haute puissance avec étage rotatif et amp; Refroidisseur d'eau

Réchauffeur de machine de revêtement de pulvérisation de plasma à 3 cibles rotatives (500C) comprenant 3 cibles

3 Coater de pulvérisation de plasma à cible rotative w. Réchauffeur de substrat (500C) comprenant 3 cibles

Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de C.C de laboratoire avec la cible pour le revêtement en métal noble

Coucheuse compacte de pulvérisation de magnétron de C.C avec la cible d'or pour le revêtement en métal noble

Machine de revêtement PVD en poudre de laboratoire avec étape de pulvérisation et de vibration magnétron CC

Coucheuse PVD en poudre compacte avec pulvérisation magnétron DC & Étape de vibration

Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI

Coucheuse de pulvérisation magnétron à plasma RF à 5 têtes personnalisée pour la recherche sur les couches minces MGI

Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DC

Coucheuse par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentations RF / DC

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine

Coucheuse de pulvérisation plasma magnétron DC/RF à double tête sous vide poussé de 2 pouces