Plasma Sputtering Coaters,Thermal Evaporation Coaters

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Machine de revêtement d'hydrogel de laboratoire personnalisée pour la production de patchs de refroidissement de fièvre
Cible SrTiO3, 99,99 % 2" Dia x 0,25" épaisseur céramique-TG-STO-50D0635-US
Cible SrRuO3 99,9 % 2 " dia x 0,25" épaisseur-TG-SrRuO3-50D06-US5
Four CSS à deux zones avec support de plaquette rotatif jusqu'à 5x5" à Max.800°C
Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de C.C de laboratoire avec la cible pour le revêtement en métal noble
2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine pour couches minces non conductrices
centrifugeuse programmable à haute vitesse (10 000 tr / min et 5 "max) avec mandrins à vide (couvercle chauffant en option)
200 C Max. Machine d’enduit de Film automatique avec couverture sèche et racle de 140mm
Système de revêtement de transfert Roll to Roll avec étuve pour électrodes de batteries
petite machine de couchage de film de batterie de 200 ° c pour batterie au lithium
centrifugeuse anti-corrosion (8000 tr / min et plaquette 6 "max.) avec accessoires complets
Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine
Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DC
Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI
Lab 3 têtes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine avec DC Magnetron Sputtering
Applicateur de Film réglable micrométrique - largeur 150 mm
Machine de système d'évaporation thermique à 4 sources avec contrôleur de température de précision
Applicateur de Film micromètre avec largeur réglable 0 - 150 mm
Machine de revêtement PVD en poudre de laboratoire avec étape de pulvérisation et de vibration magnétron CC
Applicateur de Film réglable micrométrique - 50 mm
Haute qualité Double lame micromètre Film applicateur avec une largeur de 150 mm
Four CSS à deux zones de laboratoire pour un traitement thermique rapide jusqu'à 3" de diamètre et 650 °C.
Machine de revêtement par évaporation thermique sous vide poussé ultrasonique avec quatre sources de chauffage (10-6 torr)
Four CSS de laboratoire à deux zones pour un traitement thermique rapide jusqu'à 5" Dia Wafer à Max.800°C

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