Lab 3 têtes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine avec DC Magnetron Sputtering

3 têtes compactes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater, avec option de pulvérisation DC Magnetron

2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine pour couches minces non conductrices

2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater pour couches minces non conductrices

Machine de revêtement de pulvérisation magnétron DC Lab avec étage rotatif et refroidisseur d'eau

Coucheuse de pulvérisation magnétron CC haute puissance avec étage rotatif et amp; Refroidisseur d'eau

Réchauffeur de machine de revêtement de pulvérisation de plasma à 3 cibles rotatives (500C) comprenant 3 cibles

3 Coater de pulvérisation de plasma à cible rotative w. Réchauffeur de substrat (500C) comprenant 3 cibles

Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de C.C de laboratoire avec la cible pour le revêtement en métal noble

Coucheuse compacte de pulvérisation de magnétron de C.C avec la cible d'or pour le revêtement en métal noble

Machine de revêtement PVD en poudre de laboratoire avec étape de pulvérisation et de vibration magnétron CC

Coucheuse PVD en poudre compacte avec pulvérisation magnétron DC & Étape de vibration

Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI

Coucheuse de pulvérisation magnétron à plasma RF à 5 têtes personnalisée pour la recherche sur les couches minces MGI

Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DC

Coucheuse par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentations RF / DC

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine

Coucheuse de pulvérisation plasma magnétron DC/RF à double tête sous vide poussé de 2 pouces

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique sous vide de laboratoire DC avec taille de chambre de 150*120mm

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique sous vide de laboratoire DC avec taille de chambre de 150*120mm Introduction Coucheuse par pulvérisation ionique (Modèle SD900) est idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Il est largement utilisé pour recouvrir des échantillons SEM non conducteurs d'Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement en 2 minutes en utilisant une pompe à vide appropriée. Il génère beaucoup moins de chaleur. Il est convivial et facile à utiliser. La pompe à vide est incluse. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant de pulvérisation maximum 0-20mA Travail p pression 30 Pa - 7 Pennsylvanie Passe l'aspirateur je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Gaz c contrôle Gaz F bas c contrôleur Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Taille cible φ 50* 0,1 mm( UN tu)/ t source cible : Au,Ag,Pt Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 45 kg/ 36 0mm longueur x 30 0 mm de large X 38 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 15 00W Refroidissement m méthode Air c bouillir garantie Garantie limitée d'un an avec support produit à vie t

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF Introduction Haute Coucheuse par pulvérisation ionique magnétron sous vide est idéal et conçu pour la science des matériaux et la préparation d'échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour revêtir, pour les métaux, les céramiques, les semi-conducteurs, les isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires. La coucheuse de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron en très peu de temps. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation CC / RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est également facile à utiliser et convivial. La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump+( o c'est gratuit) t urbain m oléculan p ump ensemble Rotatif p umping s pissé 50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /h (5,2 L/s) Moléculaire p umping s pissé 300 L/ s Vide je imiter 5*10 -5 Pennsylvanie Travail p pression 0,5-5 Pa Passe l'aspirateur t je moi > 10 minutes (10 -3 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 1*10 -6 Pennsylvanie Gaz c contrôle Gaz F bas c contrôleur Chambre s ize φ260*200mm (hauteur) m etal Magnétron t argent s source Taille cible φ 50*3mm(Cu)/ t source cible : w eak m magnétique s substance / m matériaux Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 100 kg/610 mm de longueur x 420 mm de largeur x 490 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation <3000W Refroidissement m méthode Air c bouillir ( p ump)+ w après c bouillir ( s putter t arget) garantie Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie

Coucheuse de pulvérisation ionique automatique portable sous vide CC pour la préparation d'échantillons SEM non conducteurs

Coucheuse de pulvérisation ionique automatique portable sous vide CC pour la préparation d'échantillons SEM non conducteurs Introduction Compact Coucheuse automatique par pulvérisation ionique (Modèle SD800) idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Il est largement utilisé pour recouvrir des échantillons SEM non conducteurs d'Au pour une meilleure imagerie. Il est également excellent pour le traitement de surface. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement lors de l'utilisation bonne pompe à vide. Il génère beaucoup moins de chaleur. Il est convivial et facile à utiliser à l'aide de Time Control. La pompe à vide est incluse. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Passe l'aspirateur t je moi &lt; 2 Min Chambre s ize Φ 115 * 1 00mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Magnétron t argent s source Taille cible φ 50* 0,1 mm( UN tu)/ t source cible : Au,Ag,Pt Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 4 0kg/ 307 mm longueur x 26 0 mm de large X 26 0 mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 15 00W Refroidissement m méthode Air c bouillir garantie Garantie limitée d'un an avec produit à vie Support

Coucheuse de revêtement par pulvérisation cathodique à évaporation thermique à impulsions sous vide avec pompe à vide

Coucheuse de revêtement par pulvérisation cathodique à évaporation thermique à impulsions sous vide avec pompe à vide Introduction Automatique Couche de carbone à évaporation thermique pulsée (Modèle SD980) idéal et conçu pour la préparation d'échantillons SEM en laboratoire. Le revêtement de carbone modèle SD980 est un revêtement de carbone entièrement automatisé qui applique un mince film de carbone conducteur sur une surface d'échantillon. L'application de ce revêtement à un échantillon non conducteur est une technique de préparation efficace pour diminuer les artefacts d'électrons de charge pour l'analyse dans un SEM. Un mode pulsé pour protéger les échantillons est également inclus. La pression de vide de travail peut être obtenue rapidement en utilisant une pompe à vide appropriée. Il est convivial et facile à utiliser en contrôlant la puissance de chauffage de l'écran tactile (courant) et les temps de pulsation (recette). La pompe à vide est incluse. Paramètre Vide p ump s et ( O si nécessaire) r otaire v acide p ump Rotatif p umping s pissé 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vide je imiter 2 Pennsylvanie Courant d'évaporation max 80A Travail p pression 6 Pa - 4 Pennsylvanie Passe l'aspirateur t je moi <5 Min( 2 Pennsylvanie) Vide m mesure Plage de mesure de l'atmosphère à 2*10 -2 mbar Chambre s ize Φ 15 0* 12 0 mm (hauteur) verre de quartz résistant aux rayures Évaporation t argent s source Cible matériau : corde de carbone / t source cible : corde de carbone Opération m méthode Manuel d'instructions je Masse/ s ize 45 kg/ 39 0mm longueur x 31 0 mm de large X 2 90mm de haut Pouvoir s approvisionner CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz Pouvoir c consommation &lt; 2 000W garantie Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie