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produits
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Machine de revêtement d'évaporation thermique sous vide à température contrôlée de précision de laboratoire
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Réchauffeur de machine de revêtement de pulvérisation de plasma à 3 cibles rotatives (500C) comprenant 3 cibles
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Revêtement de pulvérisation de carbone par évaporation thermique d'ions magnétron pour la préparation d'échantillons SEM
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Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide pour la science des matériaux
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Coucheuse de revêtement par pulvérisation cathodique à évaporation thermique à impulsions sous vide avec pompe à vide
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Coucheuse de pulvérisation ionique automatique portable sous vide CC pour la préparation d'échantillons SEM non conducteurs
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Coucheuse de revêtement de carbone à évaporation thermique sous vide pour la science des matériaux
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Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF
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Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique sous vide de laboratoire DC avec taille de chambre de 150*120mm
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Machine de revêtement de film deux en un : pulvérisation de plasma et machine de revêtement par évaporation de carbone
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Machine de revêtement de pulvérisation magnétron DC Lab avec étage rotatif et refroidisseur d'eau
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Four CSS à deux zones avec support de plaquette rotatif jusqu'à 5x5" à Max.800°C
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Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron de C.C de laboratoire avec la cible pour le revêtement en métal noble
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2 pouces RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine pour couches minces non conductrices
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Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine
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Machine de revêtement par pulvérisation plasma combinatoire avec trois sources de pulvérisation magnétron 2 '' et alimentation RF/DC
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Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron à plasma RF à 5 têtes pour la recherche sur les couches minces MGI
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Lab 3 têtes 1 pouce RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine avec DC Magnetron Sputtering
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Machine de système d'évaporation thermique à 4 sources avec contrôleur de température de précision
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Machine de revêtement PVD en poudre de laboratoire avec étape de pulvérisation et de vibration magnétron CC
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Four CSS à deux zones de laboratoire pour un traitement thermique rapide jusqu'à 3" de diamètre et 650 °C.
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Machine de revêtement par évaporation thermique sous vide poussé ultrasonique avec quatre sources de chauffage (10-6 torr)
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Four CSS de laboratoire à deux zones pour un traitement thermique rapide jusqu'à 5" Dia Wafer à Max.800°C
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